重要な点としてProFossの測定精度が分析室のラボ用分析装置と同等かどうかということが挙げられます。
ProFoss製粉用ユーザーによる検証によると両ソリューションのパフォーマンスは同等でした。
パフォーマンスが同等であっても、ProFossシステムでは高い頻度で測定するので、推移の偏りやばらつきをより早期に発見できます。
ProFossは、トレンド・チャートに見られるように、工程でのより小さなばらつきの発見にもご利用いただけます。 ラボ用分析装置によるプロセス管理ではオペレーターによる人為的な誤差のリスクがあります。 人為的なエラーによる不正確な測定値がプロセスの調整に用いられることも考えられます。
誤った調整設定で次のサンプルが分析されるまで、1～2時間製造が続けられる可能性もあります。 伝統的に、NIR試験室の装置は予測標準誤差（SEP)により決定されますが、実際には、性能の良さはサンプリング・エラーやサンプル前処理
エラー、分析エラーの組み合わせにより限定されてしまいます。
対照的に、ProFossは製造工程の中から直接測定します。 そのため、サンプリング・エラーやサンプル前処理エラーは、ほとんどゼロと等しくなります。 トレンドチャートを用いたプロセスのばらつきのモニタリングとムービングアベレージ機能でラボ用分析装置の作業間誤差の検出までも可能にします。 何らかの理由で誤った測定結果が出されても、その結果のみに基づいて、数秒後に工程が調整されてしまうようなことはありません。
